小型濺射儀儀問(wèn)儀答

最近小伙伴對于濺射儀使用和技術(shù)參數問(wèn)的問(wèn)題比較多，今天總結一下濺射儀的一些常見(jiàn)的技術(shù)問(wèn)題：

1、膜厚檢測儀原理：膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測量技術(shù)加上*數學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線(xiàn)鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計算。主要應用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設備的薄膜制備過(guò)程中，對膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監測。

2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳  但是 鎳是導磁金屬 所以 需要靶材盡量薄 0.5mm-1mm最好  太厚磁場(chǎng)無(wú)法穿透  濺射速率很低。

3、直流濺射鍍膜調節：1 靶材需要良好的導電性, 如果具備這個(gè)條件  可以鍍    2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色。

鄭科探小型濺射儀KT-Z1650PVD

以上是小伙伴近期問(wèn)的比較多的問(wèn)題，如果還有什么問(wèn)題歡迎咨詢(xún)。