鄭科探小型濺射儀功能優(yōu)勢

1、樣品臺旋轉，多樣品同時(shí)鍍膜時(shí)，鍍膜厚度比較均勻。

2、預濺射擋板功能，剛開(kāi)始鍍膜的時(shí)候腔室里會(huì )有些雜質(zhì)，擋板可以保護樣品，提高薄膜質(zhì)量

3、帶有水冷系統，可以長(cháng)時(shí)間濺射鍍膜，厚度可達1微米以上。

4、直流磁控濺射，提高附著(zhù)力，濺射速率快，比離子濺射快上一個(gè)量級。針對某些金屬最快能達到1-2納米每秒，

5、不但可以電鏡制樣，還可以制作金屬電極。

6、可擴展膜厚監測，監測薄膜厚度。

濺射儀使用需注

1 靶材需要良好的導電性, 如果具備這個(gè)條件  可以鍍    

2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色