主要應用于半導體材料的合成燒結、催化劑材料的制備、材料的活性評價(jià)、光解水制氫、光解水制氧、二氧化碳還原、氣相光催化、甲醛氣體的光催化降解、VOCs、NOx、SOx、固氮等領(lǐng)域。

高溫光熱催化反應系統實(shí)現高溫過(guò)程中光催化反應體系，工作區溫差小于±1℃；

可以讓紫外光、可見(jiàn)光、紅外光等光源照射到催化劑材料的表面，實(shí)現光熱協(xié)同；

光熱催化反應器采用高透光石英玻璃管，內含石英專(zhuān)用樣品舟；

可以實(shí)現氣氛保護、抽取真空、多種氣體流量控制等功能；

系統采用一體化結構設計，可以隨時(shí)調整樣品位置，實(shí)現快速加熱或快速冷卻；

采取模塊化設計，光源、高溫反應熱臺、高真空等，可根據實(shí)驗調整。