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粉末坩堝蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專(zhuān)為科研院所及實(shí)驗室用戶(hù)群體設計開(kāi)發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)、金屬粉末等。配有樣品擋板，可手動(dòng)或自動(dòng)開(kāi)/關(guān)擋板，達到及時(shí)遮擋樣品效果；觸摸屏控制，操作簡(jiǎn)單，更有工藝儲存等功能。

真空鍍銅蒸鍍儀KT-Z1650CVD是一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)。廣泛應用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等。鍍銅可打底用，增進(jìn)電鍍層附著(zhù)能力，及抗蝕能力。

鄭科探小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專(zhuān)為科研院所及實(shí)驗室用戶(hù)群體設計開(kāi)發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統。機架電控一體化設計，整體布局緊湊合理，充分考慮人機工程學(xué)的傾斜操控面板和可直觀(guān)觀(guān)察蒸發(fā)狀態(tài)的玻璃真空室結構相得益彰。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)。廣泛應用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等，特別適合太陽(yáng)能電池、有機EL、LED顯示管研究與開(kāi)發(fā)領(lǐng)域。

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