鄭州科探儀器設備是高質(zhì)量定制物理 氣相沉積（PVD）系統的設計者和制造商，客戶(hù)服務(wù)和售后服務(wù)出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗。其研發(fā)團隊在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下，高度積極地開(kāi)發(fā)新設計以滿(mǎn)足客戶(hù)的特殊要求。

   鄭科探的工程團隊設計和制造的組件符合高質(zhì)量標準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過(guò)分銷(xiāo)商銷(xiāo)往許多大學(xué)和研究中心，并得到了很好的參考和反饋。

儀器描述：

半導體真空磁控濺射儀器，能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金（Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。 在較短時(shí)間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結構緊湊，全自動(dòng)控制，設計符合人體工程學(xué)，所得結果一致，可重復性高。

    產(chǎn)品特點(diǎn)：

    • 彩色觸摸屏：數據輸入簡(jiǎn)單快速

    • 通過(guò)觸摸屏中直觀(guān)檢測數據和曲線(xiàn)；歷史頁(yè)面可顯示歷史涂層信息。

    • 可控鍍膜速率，可得到更精細的晶粒結構

    • 可手動(dòng)或自動(dòng)，根據時(shí)間或根據厚度進(jìn)行濺射

• 樣品臺更換簡(jiǎn)單：標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉；行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來(lái)好的噴金效果。

半導體真空磁控濺射儀器技術(shù)參數；